●研究室所有実験装置


【試料作製関係】

クイックコーター(DCマグネトロンスパッタリング装置)
 ・ソース:1元 ・バッチ式

RF sputtering

RFマグネトロンスパッタリング装置
 ・ソース:3元 ・バッチ式


RF sputtering

真空蒸着装置(ロードロック機構付き)
・抵抗加熱蒸着室:6元(うち2元は共蒸着可能) ・EB蒸着室:3連

evaporation system

ガス循環精製機構付きグローボックス
(蒸着装置に連結)









【特性評価関係】

電磁石1(空冷)
(実用最大磁場、200mT)


(画像準備中)



電磁石2(空冷)
(実用最大磁場、230mT)


(画像準備中)



電磁石3(水冷)
(実用最大磁場、1.8T)



分光蛍光光度計




磁気抵抗効果測定装置(自作)




(画像準備中)







スピンダイナミクス測定装置
(ネットワークアナライザ:Max, 13.5GHz)








●学内の他研究室にて使用させていただいている装置


・レーザー直接描画装置(フォトリソ)(工学研究科 辻本研究室)
・磁場中熱処理装置(工学研究科 辻本研究室)
・振動試料型磁束計(VSM)(工学研究科 辻本研究室)
・電子スピン共鳴装置(ESR)(理学研究科 手木研究室)
など。


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